電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) 沈陽金研
1、
設(shè)備用途:利用電阻加熱產(chǎn)生熱能,將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華,使之在基片表面析出的過程。用于制備各類有機(jī)物薄膜、金屬膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量的生產(chǎn)。
2.技術(shù)數(shù)據(jù):
極限真空度(分子泵系統(tǒng)) |
7.0×10-5Pa |
壓升率 |
≤6.7×10-1Pa/H |
真空室尺寸 |
Ф500×450mm |
電阻蒸發(fā)源功率 |
1KW |
電阻蒸發(fā)源數(shù)量 |
2套,可切換 |
水冷電極 |
3套 |
樣品臺升降機(jī)構(gòu)尺寸 |
50×50mm |
監(jiān)控膜厚顯示范圍 |
0~99μm |
2.1主真空室立式圓筒型真空室,雙層水冷
2.2真空系統(tǒng)配置分子泵,機(jī)械泵,高真空手動(dòng)插板閥