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    LICP-200型全自動ICP刻蝕機(jī) Leuven魯汶儀器(中國北京)

    產(chǎn)品品牌

    Leuven

    規(guī)格型號:

    LICP-200F型全自動ICP刻蝕機(jī)

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:Leuven

    型號:LICP-200F型全自動ICP刻蝕機(jī)

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-刻蝕設(shè)備-高密度等離子體刻蝕機(jī)

    LICP-200型全自動ICP刻蝕機(jī)

     
     

     

    系統(tǒng)簡介

    魯汶儀器生產(chǎn)的LICP-200型全自動ICP刻蝕機(jī)是一臺實(shí)驗(yàn)室用高性能刻蝕機(jī)。

    具有刻蝕速率高、刻蝕精度高、刻蝕選擇比高等一系列優(yōu)點(diǎn),已成為目前高精度微細(xì)加工必不可少的先進(jìn)工具。廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、半導(dǎo)體、微機(jī)械、納米器件、石墨烯等領(lǐng)域的微細(xì)加工。

    它可通F基氣體刻蝕Si、SiO2、SiN、Poly-Si、SiC、Ge、W、Mo、Ta、鈦酸鉍、鈮酸鋰、石英等。

    除了可進(jìn)行常規(guī)圖形的刻蝕加工之外,還具有刻蝕納米圖形的能力。

    刻蝕工藝全自動,軟件中包含刻蝕材料的推薦工藝菜單,操作簡單,重復(fù)性好,經(jīng)久耐用。

     

    刻蝕性能

    1、最細(xì)刻蝕線寬≤100nm。

    2、刻蝕均勻性:≤±5%。

    3、樣品大小:≤8寸。

     

    標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型主要配置

    1、陽極氧化鋁腔室;

    2、分子泵、機(jī)械泵高真空機(jī)組;

    3、激勵射頻電源帶自動匹配器;

    4、偏壓射頻電源帶自動匹配器;

    5、數(shù)字真空計(jì)和壓力開關(guān);

    6、氣路系統(tǒng)、數(shù)字流量計(jì),可定制增減;

    7、調(diào)壓閥、高閥、低閥;

    8、帶觸摸屏集成工控計(jì)算機(jī),有嚴(yán)格的檢漏、互鎖、報警等安全措施;

    9、具有He背冷系統(tǒng),可冷卻加工基片。


    關(guān)于我們

     

    江蘇魯汶儀器有限公司是由比利時魯汶儀器、中科院微電子研究所等共同注資成立。公司總部位于江蘇省邳州市,在比利時設(shè)有研發(fā)中心及銷售部,在北京和俄羅斯設(shè)有銷售部。公司秉承“以創(chuàng)新為主導(dǎo),客戶信賴為第一”的宗旨,倡導(dǎo)精益求精的工匠精神,為客戶提供性能卓越的半導(dǎo)體研發(fā)、生產(chǎn)、材料檢測等精密設(shè)備及配套技術(shù)服務(wù)。

    公司旨在研發(fā)與生產(chǎn)大學(xué)實(shí)驗(yàn)室、研究所及半導(dǎo)體生產(chǎn)線所需儀器設(shè)備,瞄準(zhǔn)定制化市場。主要產(chǎn)品有薄膜材料納米孔徑分析儀、高端平臺刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕系列設(shè)備、化學(xué)氣相沉積系列設(shè)備、濺射薄膜鍍膜系列設(shè)備、原子層鍍膜系列設(shè)備、濕法清洗刻蝕系列設(shè)備等,公司擁有自主專利技術(shù),核心產(chǎn)品技術(shù)國際領(lǐng)先。

    公司堅(jiān)持以人為本,技術(shù)團(tuán)隊(duì)囊括諾貝爾獎獲得者、兩名“千人計(jì)劃”專家,多名國內(nèi)外半導(dǎo)體領(lǐng)域知名教授及高校科研院所的年輕技術(shù)骨干。國際一流的人才團(tuán)隊(duì)為公司保持技術(shù)領(lǐng)先、實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新驅(qū)動打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

    公司致力于成為全球一流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,愿與客戶、供應(yīng)商、業(yè)界同仁及投資者共同開拓和締造半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的廣闊未來!


     

     

     

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