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系統(tǒng)簡介
魯汶儀器生產(chǎn)的LICP-200型全自動ICP刻蝕機是一臺實驗室用高性能刻蝕機。
具有刻蝕速率高、刻蝕精度高、刻蝕選擇比高等一系列優(yōu)點,已成為目前高精度微細加工必不可少的先進工具。廣泛應用于微電子、光電子、半導體、微機械、納米器件、石墨烯等領域的微細加工。
它可通F基氣體刻蝕Si、SiO2、SiN、Poly-Si、SiC、Ge、W、Mo、Ta、鈦酸鉍、鈮酸鋰、石英等。
除了可進行常規(guī)圖形的刻蝕加工之外,還具有刻蝕納米圖形的能力。
刻蝕工藝全自動,軟件中包含刻蝕材料的推薦工藝菜單,操作簡單,重復性好,經(jīng)久耐用。
刻蝕性能
1、最細刻蝕線寬≤100nm。
2、刻蝕均勻性:≤±5%。
3、樣品大小:≤8寸。
標準機型主要配置
1、陽極氧化鋁腔室;
2、分子泵、機械泵高真空機組;
3、激勵射頻電源帶自動匹配器;
4、偏壓射頻電源帶自動匹配器;
5、數(shù)字真空計和壓力開關;
6、氣路系統(tǒng)、數(shù)字流量計,可定制增減;
7、調(diào)壓閥、高閥、低閥;
8、帶觸摸屏集成工控計算機,有嚴格的檢漏、互鎖、報警等安全措施;
9、具有He背冷系統(tǒng),可冷卻加工基片。
江蘇魯汶儀器有限公司是由比利時魯汶儀器、中科院微電子研究所等共同注資成立。公司總部位于江蘇省邳州市,在比利時設有研發(fā)中心及銷售部,在北京和俄羅斯設有銷售部。公司秉承“以創(chuàng)新為主導,客戶信賴為第一”的宗旨,倡導精益求精的工匠精神,為客戶提供性能卓越的半導體研發(fā)、生產(chǎn)、材料檢測等精密設備及配套技術服務。
公司旨在研發(fā)與生產(chǎn)大學實驗室、研究所及半導體生產(chǎn)線所需儀器設備,瞄準定制化市場。主要產(chǎn)品有薄膜材料納米孔徑分析儀、高端平臺刻蝕機、等離子體刻蝕系列設備、化學氣相沉積系列設備、濺射薄膜鍍膜系列設備、原子層鍍膜系列設備、濕法清洗刻蝕系列設備等,公司擁有自主專利技術,核心產(chǎn)品技術國際領先。
公司堅持以人為本,技術團隊囊括諾貝爾獎獲得者、兩名“千人計劃”專家,多名國內(nèi)外半導體領域知名教授及高??蒲性核哪贻p技術骨干。國際一流的人才團隊為公司保持技術領先、實現(xiàn)創(chuàng)新驅(qū)動打下了堅實的基礎。
公司致力于成為全球一流的半導體設備供應商,愿與客戶、供應商、業(yè)界同仁及投資者共同開拓和締造半導體設備領域的廣闊未來!
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