光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式,必不可少的分析工具。器件在設計、生產(chǎn)制造過程中有絕緣缺陷,或者期間經(jīng)過外界靜電擊穿,均會造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下,內(nèi)部形成流動電流,漏電位置的電子會發(fā)生遷移,形成電能向光能的轉化,即電能以光能的方式釋放,從而形成200nm~1700nm紅外線。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測器,通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的紅外線,從而精準的定位到器件的漏電點。我司推出的P-100光發(fā)射顯微鏡(EMMI),在同業(yè)中具有超高的性價比,并憑借良好的售后服務,迅速占領市場.目前大中國地區(qū)的知名失效分析客戶有: 上海宜碩、深圳宜智發(fā)、上海閎康、上海礬詮、廣州五所、北京電科院、東南大學、樂山菲尼克斯、深圳明微