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    SENTECH 原子層積淀(ALD)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

    產(chǎn)品品牌

    Sentech

    庫(kù)       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    德國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:Sentech

    型號(hào):

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

     ALD逐層沉積,在三維形貌沉積中保持高的均勻性,通過(guò)工藝過(guò)程中分步添加前置物,可以準(zhǔn)確的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系數(shù)。PE-ALD是一種先進(jìn)的方法,通過(guò)將自由基(radical)的氣體樣品,而不是水(沉積過(guò)程中作為氧化物oxidizer)。 


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    4001027270

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