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一站式MEMS解決方案

發(fā)表于：2017-12-14  作者：3139139  關(guān)注度：238

江蘇英特神斯科技有限公司MEMS加工平臺位于南京浦口高新技術(shù)開發(fā)區(qū)，平臺建于2009年，擁有100級凈化廠房40平方米，1000級凈化廠房300平方米。MEMS加工平臺擁有國內(nèi)一流的MEMS前道加工設(shè)備、技術(shù)和人才，面向國內(nèi)和全球客戶，提供完整的MEMS器件設(shè)計加工服務(wù)。
光刻工藝
光刻工藝一般包括前處理、勻膠、對準(zhǔn)曝光、顯影、烘干等工藝步驟
光刻設(shè)備型號：EVG620 雙面光刻機
對準(zhǔn)精度（20X目鏡）
正面0.5um   背面1.0um
處理晶圓尺寸：
襯底直徑150mm，襯底厚度0.1~10mm


 


勻膠設(shè)備
EVG150 全自動涂膠機


 

國產(chǎn) KW-4A 手動勻膠機


 


顯影設(shè)備

Mask Cleaner
設(shè)備型號：Ultratech 603



100級潔凈烘箱/HDMS烘箱
 


 

SRD甩干機
設(shè)備型號：SemiTool  ST 470F / ST 870

鍵合工藝
可進行的鍵合類型：陽極鍵合、共晶鍵合、焊料鍵合、硅硅鍵合（預(yù)鍵合）、玻璃-玻璃鍵合。
鍵合機型號：EVG 520IS
處理晶圓尺寸：襯底直徑150mm

商家資料

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4001027270

功能和特性

價格和優(yōu)惠

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