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光刻(photoetching or lithography)是通過一系列生產步驟，將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。
公司提供電子束光刻、激光直寫、步進式光刻、接觸式光刻、硬掩膜光刻等光刻技術，線寬最小可達10nm，多種光刻結合的先進光刻理念，實現了不同尺寸的光刻需求。
服務流程：
客戶提出功能要求；
設計工程師進行結構、尺寸和工藝設計；
確認設計方案、制備周期和價格；
開始制備；
交付產品。
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