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    包郵 關(guān)注:1177

    化學(xué)拋光機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    MCF

    庫       存:

    60

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
     CPI化學(xué)拋光機(jī)
    具體設(shè)備詳情請咨詢專業(yè)銷售:  400-6988-696   

    CPI系列純化學(xué)拋光設(shè)備是 MCF 公司研制的一款,對于高精度的半導(dǎo)體晶片及其它電子、光電晶體的表面進(jìn)行最終腐蝕拋光工藝的設(shè)備,可以實(shí)現(xiàn)最低的次級表面損傷。CPI系列化學(xué)拋光設(shè)備具有強(qiáng)防腐蝕的功能,在保護(hù)操作人員人身安全的情況下,還能夠很好的滿足腐蝕拋光溶劑,如溴甲醇,過氧化氫或酸腐蝕劑等,同樣也適用于腐蝕性較弱的化學(xué)拋光,如半導(dǎo)體晶片的背面拋光。CPI系列純化學(xué)拋光設(shè)備可以與GNAD系列精密研磨拋光設(shè)備配合使用,可以實(shí)現(xiàn)電子器件對于晶片表面平整度、平行度及厚度非??量痰目刂埔螅⒛芡耆_(dá)到這些控制標(biāo)準(zhǔn)。

     

    特點(diǎn)

    • 無任何機(jī)械作用力,實(shí)現(xiàn)最低次級表面損傷

    • 超強(qiáng)防腐材料制成,由聚丙烯,涂PVDF和環(huán)氧的聚亞安酯制成,可用于多種侵蝕劑液,如溴-甲醇等。

    • 加工樣品尺寸(3×3"),(3×4"),(2×3"和1×4"),(1×3"和2×4"),(3×3"和3×4")等多種尺寸組合可根據(jù)用戶工藝要求定制。

    • 滴液速度、磨盤轉(zhuǎn)速可設(shè)置,擺速可從0到45每秒,操作方便,可遠(yuǎn)程控制。

    • 時(shí)間從0到10個(gè)小時(shí)自由調(diào)節(jié),到達(dá)設(shè)定時(shí)間時(shí),儀器可以繼續(xù)運(yùn)行,也可以設(shè)置成自動(dòng)停止。

    • 半導(dǎo)體晶片和光晶體的高精度腐蝕拋光,并提供晶體最小應(yīng)力的解決方案

    原理      

    設(shè)備由主驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),防腐蝕填料系統(tǒng),廢料疏導(dǎo)系統(tǒng)和遠(yuǎn)程控制系統(tǒng)組成,拋光盤更換方便,并且容易清洗。主驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)配有齒輪驅(qū)動(dòng)裝置,樣品在行星齒輪內(nèi)繞著中心齒輪同步轉(zhuǎn)動(dòng),保證了樣品表面平整度和平行度。

    應(yīng)用

    1、用于紅外探測和其它器件的碲鋅鎘,銻化銦,碲鎘汞等材料在封裝及外延生長前的末級化學(xué)腐蝕拋光。

    2、用于薄脆的半導(dǎo)體材料,如砷化鎵,磷化銦和多種Ⅲ-Ⅴ族,Ⅱ-Ⅵ族化合物等。

    3、用于所有需要電子/光學(xué)級拋光的高標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用,如硫化鎘及類似的光電材料。

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    4001027270

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