“Certas WING”設計用于加工300mm晶圓,是Certas的第二代系統(tǒng)。這是一種環(huán)保,高產量的氣體化學蝕刻系統(tǒng),可以在不使用清洗液的情況下進行表面蝕刻和清洗。與濕式清潔相比,已經完全干燥的處理單元不使用化學品,不需要昂貴的廢物處理設備,并且具有改進的可維護性。它消除了水印,并提供了各種氧化膜蝕刻的獨特選擇比例,細微的界面清潔控制,與TEL清潔系統(tǒng)一起使用時具有更高的靈活性。它支持從批量生產到下一代開發(fā)的廣泛應用。
特征
獨特的氧化膜選擇性蝕刻和氣體化學品預處理
新的腔室設計實現(xiàn)了高吞吐量(大約兩倍)和小占用空間
無等離子處理可實現(xiàn)耗材的高正常運行時間和低成本
應用
氧化硅膜的蝕刻和回蝕
硅觸點預清洗
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