網(wǎng)站首頁

中|EN

當前位置: 首頁 » 設備館 » 半導體加工設備 » 刻蝕設備 » 其它刻蝕設備 »德國 Iplas 微波等離子化學氣相沉積
    •
    包郵 關注:591

    德國 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-刻蝕設備-其它刻蝕設備

    產(chǎn)品品牌

    德國 Iplas

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付
    • 商品詳情
    • 商品參數(shù)
    • 評價詳情(0)
    • 裝箱清單
    • 售后保障

    品牌：德國 Iplas

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-刻蝕設備-其它刻蝕設備

     
    德國 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

    德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積機
    詳細介紹
    德國 IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術（MPCVD), 通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態(tài)好的高質量硬質薄膜和晶體。

    MPCVD是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司專利的 CYRANNUS® 等離子技術解決了傳統(tǒng)等離子技術的局限，可以在10mbar    到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團，最大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化，從而確保單晶生長的持續(xù)性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

    化學機理概要：

    碳氫化合物：提供沉積材料

    氫氣：生成sp3鍵

    氧：對石墨相/sp2鍵侵蝕

    惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。

    適用合成材料：

    大尺寸寶石級單晶鉆石

    高取向度金剛石晶體

    納米結晶金剛石

    碳納米管/類金剛石碳（DLC）

    金剛石薄膜
    寶石級鉆石
    vvs1,~1 carrat, E grade

     
    多種等離子發(fā)生器選擇：
     
    頻率：2.45GHz, 915MHz:
     
    功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW
     
    等離子團直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm
     
    工作其他范圍：0-1000mBar 
     
                        
    其他應用：

    MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術領域的積累，可以為用戶提供高度定制的設備，滿足用戶不同的應用需要。
     
     
     


    咨詢

    購買之前，如有問題，請向我們咨詢

    提問:
     

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品：

    服務熱線

    4006988696

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

    微信公眾號