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    第二代電介質刻蝕設備 Primo AD-RIE

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-刻蝕設備

    產品品牌

    中微

    庫       存：

    10000

    產       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：中微

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-刻蝕設備

     

    Primo AD-RIE™是中微公司用于流程前端（FEOL）及后端（BEOL）關鍵刻蝕應用的第二代電介質刻蝕設備，主要用于22納米及以下的芯片刻蝕加工?；谇耙淮a品Primo D-RIE刻蝕設備已被業(yè)界認可的性能和良好的運行記錄，Primo AD-RIE做了進一步的改進：采用了具有自主知識產權的可切換低頻的射頻設計，優(yōu)化了上電極氣流分布及下電極溫度調控的設計。

    Primo AD-RIE已經成功通過了3000片晶片馬拉松測試。除已證實其具備更優(yōu)越的重復性及穩(wěn)定性以外，該產品還可將晶片上關鍵尺寸均勻度控制在2納米內。

    系統(tǒng)特點及技術優(yōu)勢

    2-13.5兆赫茲可切換射頻發(fā)生器在多膜層結構的刻蝕能改善工藝水平

    獨特的射頻輸入和對稱分布改善等離子密度的均勻分布

    三區(qū)氣體分布為刻蝕速度的均勻度提高有效的可調性

    靜電吸盤雙區(qū)冷卻裝置提高晶片溫度可調性，極大改善晶圓片刻蝕均勻度

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