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多弧離子鍍輔助沉積優(yōu)點(diǎn):
1、從陰極直接產(chǎn)生等離子體,不用熔池,陰極靶可根據(jù)工件形狀在任意方向布置,使夾具大為簡化。
2、入射粒子能量高,膜的致密度高,強(qiáng)度和耐久性好,附著強(qiáng)度好。
3、離化率高,一般可達(dá)60%~80%。
4、從應(yīng)用的角度講,其突出優(yōu)點(diǎn)是蒸鍍速率快。
我公司研發(fā)的離子復(fù)合鍍膜設(shè)備具備:
1、先進(jìn)的離子注入技術(shù);
2、電弧離子鍍技術(shù)和工藝;
3、低溫條件下實(shí)現(xiàn)膜層與基體的良好結(jié)合;購買之前,如有問題,請(qǐng)向我們咨詢