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    包郵 關(guān)注:429

    lynceetec生產(chǎn)線形貌實時檢測儀

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體測試設(shè)備-表面形貌測試-表面輪廓儀

    產(chǎn)品品牌

    lynceetec

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:lynceetec

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體測試設(shè)備-表面形貌測試-表面輪廓儀

     
    數(shù)字全息顯微鏡DHM采用CCD記錄全息圖中包含物體相位信息,通過計算機(jī)進(jìn)行實時數(shù)值重建得到實時三維形貌圖。
    主要特點:
    1、非掃描、非接觸、超高速大面積、動態(tài)三維形貌表征(速度可達(dá)1000fps)
    2、縱向亞納米分辨率
    3、按照國際標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行粗糙度測量,無損樣品無懼振動,選配MEMS頻閃模塊、熒光模塊等拓展更多應(yīng)用。
    產(chǎn)品特色:
    超高速記錄動態(tài)三維形貌
    DHM? 采用非掃描機(jī)制,采集單幀圖像 既能記錄樣品表面三維形貌,因此擁有其他技術(shù)無法匹敵的圖像采集速度。使用標(biāo)準(zhǔn)相機(jī)采集速度為視頻速率30幀/秒,而高速相機(jī)可以達(dá)到1000幀/秒,使得以下應(yīng)用變?yōu)榭赡埽?
    ? 研究可形變樣品三維動態(tài)響應(yīng)
    ? 表面大區(qū)域掃描分析
    ? 高產(chǎn)量常規(guī)檢測
    ? 生產(chǎn)線在線三維形貌捕捉
    ________________________________________
    MEMS測振分析,高可達(dá)25 MHz
    頻閃模塊(可選配件)可同步DHM? 測量時激光脈沖與 MEMS器件的激勵信號,獲取振動周期內(nèi)的全視場振動模態(tài)。 這些特有的分析數(shù)據(jù)可提供以下信息:
    ? 三維形貌時序圖
    ? 頻率共振分析和響應(yīng)分析
    ? 面內(nèi)面外振幅分析(面內(nèi)振幅測量精度1nm,面外振幅測量精度5pm)
    ? 復(fù)雜運動表征,振動模態(tài)表征,樣品動態(tài)三維形貌	多種可控環(huán)境下測量
    獨特的光學(xué)原理和光路設(shè)計使得DHM? 能夠滿足使用者在各種環(huán)境下的測量需求,提供靈活和便利的測量體驗:
    ? 透過玻璃(蓋玻片、載玻片、玻璃窗口)或者浸潤液
    ? 觀測環(huán)境控制箱或真空腔內(nèi)部樣品,可改變環(huán)境參
    數(shù),比如溫度、濕度、氣壓、氣體成分等
    
    
    ________________________________________
    測量透明樣品三維形貌
    得益于DHM? 多激光源配置,通過專用反射分析軟件(可選配件)可以表征透明薄膜樣品,包括:
    ? 透明結(jié)構(gòu)表面形貌
    ? 多層透明薄膜組成結(jié)構(gòu)的厚度、折射率,測量范圍
    可從10納米至幾十微米
    ? 柔性材料或是液體的形貌
    
    參數(shù)指標(biāo):
    系統(tǒng)
    DHM型號	R1000	R2100	R2200
    激光光源數(shù)量	1	2	3
    工作波長 (± 1.0 nm)	666 nm	666 nm, 794 nm	666 nm, 794 nm, 680 nm
    激光波長穩(wěn)定性	0.01 nm/ °C (666 nm)
    樣品臺	手動或電動XYZ樣品臺,大移動范圍 300 mm x 300 mm x 38 mm
    物鏡	放大倍數(shù)1.25x  至 100x,可選標(biāo)準(zhǔn)物鏡、高NA值物鏡、蓋玻片矯正物鏡、長工作距物鏡、水鏡、油鏡等
    物鏡臺	6口旋轉(zhuǎn)物鏡臺
    電腦	Dell新工作站,Intel? 多核處理器,高性能顯卡 針對DHM優(yōu)化配置,小21寸顯示器
    專用軟件	Koala專用數(shù)據(jù)采集分析軟件,基于C++ 和.NET 
    附加專用分析軟件供不同應(yīng)用分析(MEMS Analy sis Tool,  Cell Analy sis Tool,  Reflectometry Analy sis)
    數(shù)據(jù)格式	多種保存格式,數(shù)據(jù)格式包括.bin格式和.txt格式 圖像格式包括.tif格式和.txt矩陣格式
    
    性能
    測量模式	單激光波長 666 nm	雙激光合成波長 4.2 μm	雙激光合成波長 24 μm
    可用該測量模式的DHM型號	R1000, R2100, R2200	R2100, R2200	R2200
    測量精度1   [nm]	0.15	0.15 / 3.0 *	20
    縱向分辨率2 [nm]	0.30	0.30 / 6.0 *	40
    測量可重復(fù)性3    [nm]	0.01	0.01 / 0.1 *	0.5
    動態(tài)可測縱向范圍	大 200 μm	大 200 μm	大 200 μm
    大可測臺階高度	大 333 nm4	大 2.1 μm4	大 12 μm4
    適用樣品表面類型	平滑表面	復(fù)雜或非連續(xù)結(jié)構(gòu)表面              	復(fù)雜或非連續(xù)結(jié)構(gòu)表面
    垂直校準(zhǔn)	由干涉濾光片決定,范圍 ±0.1 nm
    圖像采集時間	標(biāo)準(zhǔn) 500 μs (快可選10 μs)
    圖像采集速率	標(biāo)準(zhǔn) 30 幀/秒 (1024 x 1024 像素) (快可選 1000 幀/秒)
    實時重建速率	標(biāo)準(zhǔn) 25 幀/秒 (1024 x 1024 像素) (快可選 100 幀/秒)
    橫向分辨率	由所選物鏡決定,大 300 nm**
    視場	由所選物鏡決定,范圍從 66 μm x 66 μm 至 5 mm x 5 mm **
    工作距	由所選物鏡決定,范圍從 0.3 至 18 mm**
    數(shù)碼聚焦范圍	高50倍于景深 (由所選物鏡決定)
    小可測樣品反射率	低于 1%
    樣品照明	低 1 μW/cm2
    頻閃模塊	適用于單光源和雙光源模式
    
    
    
    

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