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    NanoMap-1000WLI白光干涉儀

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體測試設備-光學類測試-干涉儀

    產(chǎn)品品牌

    蘆華科技

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    ￥10000.00
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    品牌：蘆華科技

    型號：

    所屬系列：半導體測試設備-光學類測試-干涉儀

    NanoMap-1000WLI白光干涉儀
    白光干涉帶來了高的分辨率、400萬像素的圖像、大范圍掃描?？啥ㄖ频牟ㄩL范圍，使用戶可以輕松靈活地測量任何表面形貌。優(yōu)點在于使用了PSI（phase shift interferometry）技術，不接觸樣品表面，不損傷樣品表面，對表面硬度沒有要求，甚至可以測試粘彈性樣品。
    光源 長壽命LED附帶兩級帶通濾波光柵技術
    可選物鏡倍數(shù) 10x（標配），2.5x，5x， 20x，50x，100x
    垂直分辨率 0.1 Å
    數(shù)字放大（Digital Zoom） 1x, 2x
    RMS可重復性 1 Å
    垂直掃描速度 3.75 to 26um/sec (software controllable)
    最大垂直測量范圍 20 mm
    臺階高度重復性 0.1% or 1 Å (1 sigma)
    臺階重復率 1 Å
    CCD分辨率 1024 x 1024（標配），1536 x 1536 ，1920x 1920
    物鏡 2.5x/5x/10x/20x/50x/100x
    Z向掃描范圍 20mm
    樣品反光率 1% to 100%
    樣品臺旋轉 360度
    樣品臺傾斜 最大4度
    標準樣品 8μm臺階標樣（選項）
    樣品臺 150*150mm(可選300*300mm)
    最大樣品厚度 50mm(可選100mm)
    樣品臺旋轉 360度
    樣品臺傾斜 4度

     

     

    主要應用
    • 三維表面輪廓測量和粗糙度測量，適用于精密拋光的光學表面，也適用于質地粗糙的機加工零件。
    • 薄膜和厚膜的臺階高度測量。
    • 劃痕形貌， 磨損深度、寬度和體積定量測量。
    • 空間分析和表面紋理表征。
    • 平面度和曲率測量。
    • 二維薄膜應力測量。
    • 微電子表面分析和MEMS 表征。
    • 表面質量和缺陷檢測。

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