X62 D9B-W型拋光機(jī)技術(shù)規(guī)格書

一、主要用途及特點：

1.1本機(jī)主要用于藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、硅片、砷化鉀片、陶瓷片、石英晶體及其他半導(dǎo)體材料的雙面拋光，也可用于其它硬脆材料的雙面高精度拋光加工。

1.2整機(jī)采用龍門結(jié)構(gòu)，支撐剛度及設(shè)備穩(wěn)定性更高。

1.3該拋光機(jī)加壓系統(tǒng)分成輕壓拋光、 中（重）壓拋光和修正（輕壓）多個壓力段，能適應(yīng)較廣泛的各類用戶拋光各種零件。

1.4本設(shè)備上拋光盤快升、快降、緩升、緩降集中于同一個手柄上，操作方便。

1.5采用三相交流異步電機(jī)，變頻調(diào)速，起動及停車平穩(wěn)，無沖擊，可以防止工件破損，也能根據(jù)加工零件材料不同，調(diào)節(jié)到理想的拋光速度。

1.6齒圈可以自動升降，并設(shè)置了齒圈下降極限位置定位裝置，便于取放工件及修正輪，太陽輪的高低位置通過對其內(nèi)墊圈的增減進(jìn)行調(diào)整。

1.7設(shè)備采用計數(shù)程序控制，也可采用時間控制，到預(yù)測目標(biāo)值屆時自動停車。因此，一人可同時操作多臺機(jī)器。

1.8本機(jī)電氣通過PLC控制，四行文本顯示器顯示壓力過程，操作方便。

二、設(shè)備基本參數(shù)

l 上下研盤尺寸：φ640mm×φ235mm×30mm（鑄鐵）

l 游星輪參數(shù)：  英制：Z＝108   DP12   α=20°

公制：Z＝114   M=2   α=20°

l 游星輪數(shù)量：   5個

l 加工能力 ：    40片/φ50mm，20片/φ75mm，10片/φ100mm

l 最小拋光厚度： 0.20mm

l 最大拋光厚度： 30mm

l 下盤轉(zhuǎn)速：     0-60rpm

l 主電機(jī)：       5.5kW   AC380V    1460rpm

l 三相電泵：     1/4HP   AC380V    70L/min

l 外型尺寸：     1000mm×1460mm×2620mm

l 重量：         約1800kg

三、基本配置

l 氣動元件：        　　　                   SMC

l 減速器：　　　　　　　　　　               杭州恒星

l 主要軸承:  　　　　　　                    NSK、哈瓦洛軸等

l 可編程控制器〔PLC〕                        臺達(dá)

l 四行文本顯示器  　                         臺達(dá)

l 變頻器     　　　　　　　                  施耐德

l 旋鈕開關(guān)、電器開關(guān)                         和泉、213等

l 主電機(jī)                                     國產(chǎn)

四、設(shè)備的安裝及使用條件

4.1、 設(shè)備箱體上裝有四個起吊柱，專門用于設(shè)備搬運(yùn)時吊裝，設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦，遠(yuǎn)離振動源，無灰塵煙霧污染的場所。

    設(shè)備安裝的條件為：

      a、溫度10℃-25℃

      b、相對濕度≤95%

      c、電源電壓AC380±38V（三相五線制）

      d、壓縮空氣源 0.4-0.6MPa

      e、冷卻水 10-20℃、0.15-0.2MPa

4.2、設(shè)備可直接放在地板上，調(diào)整六個地腳螺栓可校正設(shè)備的水平，校正時，用水平儀在下研盤上檢測（即在相互垂直的兩個方向上檢測、校正），其水平應(yīng)調(diào)至0.06/1000mm。

五、設(shè)備總體技術(shù)要求

l 上下拋光盤平面度：≤0.02mm；

l 下拋光盤端面跳動：≤0.06mm；