X62 D16S-W型拋光機技術(shù)規(guī)格書

一、產(chǎn)品用途

本設(shè)備主要用于光學(xué)玻璃、陶瓷，硅片、鍺片、計算機磁盤基片等電子材料及其他硬脆材料的雙面高精度拋光加工，適用于5〃（φ125mm）以下硅片及同尺寸規(guī)格異形平行平面材料的雙面精密拋光加工。

二、主要特點

2.1整機采用龍門結(jié)構(gòu)，主體采用箱形結(jié)構(gòu)，整體剛性好。

2.2采用四動作拋光機理，實現(xiàn)對工件非強制性的約束方式，因此在拋光過程中零件不易破損。

2.3、加壓系統(tǒng)分成輕壓、 中壓、重壓和修正（輕壓）四個階段，廣泛適用于各行業(yè)用戶的加工需求。

2.4、本機采用下盤升降方式，升降極限位置可調(diào)，滿足了取放片及游輪嚙合位置改變的要求。

2.5、采用三相交流異步電機，變頻調(diào)速，起動及停車平穩(wěn)，無沖擊。

2.6、設(shè)備采用程序控制，設(shè)定好時間、壓力段，屆時自動停車。因此，一人可同時操作多臺機器。

2.7、本設(shè)備電氣通過PLC控制，四行文本顯示器顯示。

2.8、采用全齒輪傳動方式，傳動平穩(wěn)，可靠性高。

三、主要技術(shù)參數(shù)

3.1、拋光盤尺寸：φ1155mm×φ349mm×50mm

3.2、 游星片參數(shù)：英制：齒數(shù)Z=200  模數(shù)DP12  α=20°

3.3、游星片數(shù)量：5片

3.4、修正輪數(shù)量：4個

3.5、加工能力：   85片/φ75mm，40片/φ100mm，20片/φ150mm

3.6、下拋光盤轉(zhuǎn)速：0～60rpm

3.7、整機功率：

主電機：15kW、AC380V、1460rpm、50Hz

砂泵：  1/4HP 70L/min。

3.8、設(shè)備外形尺寸（長×寬×高）：2000mm×1400mm×2670mm

3.9、設(shè)備質(zhì)量：約5500Kg

四、基本配置

4.1、氣缸:                           SMC、嘉貿(mào)等  

4.2、精密減壓閥：                    SMC

4.3、電磁閥                          MAC

4.4、減速箱:                         國產(chǎn)

4.5、PLC及文本:                     臺達

4.6、變頻器:                         施耐德

4.7、軸承:                           國產(chǎn)

五、精度指標(biāo)

5.1、下拋盤端面跳動0.08mm；

5.2、上、下拋光盤平面度0.03mm。

六、設(shè)備的安裝

   設(shè)備應(yīng)安裝在地面平坦、安裝厚度應(yīng)大于300mm，遠離振動源，無灰塵煙霧污染的場所。

    a 溫度10℃-25℃

    b 相對濕度≦95%

c 電源電壓AC380V ，50Hz

d、壓縮空氣源 0.5-0.6MPa（干燥的清潔空氣）

    e、冷卻水 10-20℃、0.15-0.2MPa