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    團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    產(chǎn)品品牌

    北京北儀

    規(guī)格型號:

    團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    10000.00
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    品牌:北京北儀

    型號:團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    團簇型多室CVD沉積系統(tǒng) 北京北儀
    • 團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)應用范圍:主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作
    • 團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)技術特點:能在真空環(huán)境下連續(xù)處理多種CVD工藝過程
    • 團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要技術參數(shù):


    • 團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

      Cluster Multi-chamber CVD Deposition System

       

      技術參數(shù)Parameter

      真空室尺寸

      Vacuum chamber size

      主真空室尺寸:Server chamber

      Φ760×270mm

      工作真空室尺寸:

      Workstation chamber

      PECVD

      250×250×300mm

      VHFCVD

      510×250×300mm

      HWCVD

      550×250×300mm

      進出片室尺寸;Loading chamber

      250×286×300mm

      主真空室工位數(shù):

      Server position of server chamber

      6

      工作真空室數(shù):

      Number of Workstation chamber

      5

      真空系統(tǒng)

      Vacuum system

      傳輸室:Server chamber

      F150+D30C

      工作真空室:

      Workstation chamber

      F100+D30C

      進出片室:Loading chamber

      D30C

      極限壓力

      Ultimate pressure

      傳輸室:Server chamber

      5×10-4Pa

      工作真空室:

      Workstation chamber

      5×10-5Pa

      進出片室:Loading chamber

      5×10-1Pa

      工件尺寸

      Substrate size

      工件最大尺寸:

      Maximum diameter

      100×100mm

      工件最大重量:Maximum weight

      2kg

      最大同時處理數(shù)量:

      Maximum loading capacity

      4

      操作

      Operation

      全自動+計算機流程控制

      Fully automatic computer control

      PLC控制

      PLC control

      氣路控制系統(tǒng)

      Gas system

      全套進口件氣路  16路進口流量計  進口變通導閥門

      9路氣體(N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2

      imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes

      (N2、Ar、SiH4、NH3、NOXTMB、B2H6、CH4、CO)

      

       北京北儀創(chuàng)新真空技術有限責任公司(原北京儀器廠)創(chuàng)建于1954年,總部位于中央商務區(qū)(CBD)的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū),占地面積31064平方米,建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認證。共有真空獲得、真空測量、真空應用三大類產(chǎn)品,從低真空到超高真空30多個系列160多個品種。產(chǎn)品廣泛地應用于航天航空、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對真空技術的探索,通過與全國多所大專院校、研究院所進行的多次合作開發(fā),以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā),北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
        在真空測量技術、真空獲得技術、光學多層全自動鍍膜技術、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(DC、MC、RF濺射技術)以及PECVD技術等方面處于國內(nèi)領先,并有多項科研成果獲得國家專利。近年來,為多個院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實驗室設備。在擁有成熟的真空技術的基礎上,2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內(nèi)首條自行設計制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線,其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術,用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積,在相對低的設備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量,產(chǎn)品的性能指標達到國際同等水平,設備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū),改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進口的現(xiàn)狀。

    北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅持“誠信 精益”的企業(yè)精神,不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進技術,以“顧客先導 持續(xù)改進”的價值觀在合作中實現(xiàn)共贏。

     
     

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    提問:
     

    請問這臺機的工作電壓是幾伏的占地多大?團簇型多室有什么優(yōu)勢?

    caoweihuo  2017-07-11

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    服務熱線

    4001027270

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