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HLI-A型白光干涉垂直掃描表面形貌綜合測量儀是基于光學(xué)干涉原理，實(shí)現(xiàn)超精密加工表面形貌和MEMS、光刻等表面結(jié)構(gòu)的非接觸精密測量，幫助表面形貌功能質(zhì)量評價(jià)和工藝分析
1.產(chǎn)品型號：WLI-A
2.產(chǎn)地：中國武漢
3.產(chǎn)品功能：基于光學(xué)干涉原理，實(shí)現(xiàn)超精密加工表面形貌和MEMS、光刻等表面結(jié)構(gòu)的非接觸精密測量，幫助表面形貌功能質(zhì)量評價(jià)和工藝分析。
4.特性參數(shù)
|
型號 指標(biāo) |
HLI-A |
HLI-C |
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放大倍率 |
10╳， 20╳，50╳ |
|
|
垂直分辨率 (nm) |
0.1 |
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垂直范圍(mm) |
0.08 |
4mm |
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水平分辨率(um) |
3.0 (10倍)， 1.0 (20倍)，0.5 (50倍) |
|
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水平范圍(mm2) |
2×1.5/10╳，1×0.8 /20╳，0.4×0.3 /50╳ |
20×20 |
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輸出標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù) |
二維粗糙度參數(shù)(ISO25178)：Ra，Rz，Rz，Rmax，Rp，Rq，Rpm，Rvm，R3z ,Wt，Pt，Tpa Ra 三維粗糙度參數(shù)(ISO25178)：Sa, Sq, Sp, Sv, Sz, Ssk, Sku, Sal, Str, Sds, Sdq, Sdr, Ssc |
|
5.應(yīng)用實(shí)例
（1）H=1.2μm標(biāo)準(zhǔn)單刻線樣板測量
（2）Ra=1.732μm標(biāo)準(zhǔn)多刻線樣板測量
（3）MEMS結(jié)構(gòu)表面MEME-1測量結(jié)果
（4）MEMS結(jié)構(gòu)表面MEME-2測量結(jié)果
（5）MEMS結(jié)構(gòu)表面MEME-3測量結(jié)果
（6）MEMS結(jié)構(gòu)表面MEME-4測量結(jié)果
6.經(jīng)典應(yīng)用領(lǐng)域：
（1）質(zhì)量管理
（2）工藝控制
（3）產(chǎn)品研發(fā)
武漢紅星楊科技有限公司（簡稱“紅星楊科技”）是致力于光機(jī)產(chǎn)品制造商和系統(tǒng)解決方案提供商的創(chuàng)新型企業(yè)。
紅星楊科技通過資源整合吸納了包含高校和研究所在內(nèi)的高端科研技術(shù)資源，為公司遠(yuǎn)景發(fā)展創(chuàng)造了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)；主營業(yè)務(wù)包含：精密位移平臺、精密運(yùn)動控制、光學(xué)平臺、光學(xué)調(diào)整架、光機(jī)系統(tǒng)儀器、作物表型儀器、進(jìn)口光機(jī)產(chǎn)品。紅星楊科技將立足于光電產(chǎn)業(yè)，堅(jiān)持高科技、高價(jià)值、高效益三大目標(biāo)，打造實(shí)力品牌優(yōu)勢、系統(tǒng)優(yōu)勢和價(jià)值優(yōu)勢的知名光電企業(yè)。
今天；明天，無論在工業(yè)自動化、計(jì)量、顯微，生命科技，還是激光技術(shù)，精密加工技術(shù)；無論是半導(dǎo)體科技，數(shù)據(jù)存儲技術(shù)，還是光電子/光纖，天文等領(lǐng)域，紅星楊科技的產(chǎn)品和技術(shù)將得到越來越廣泛的應(yīng)用，也贏得了越來越廣泛的贊譽(yù)。紅星楊科技“聚焦科技之美，創(chuàng)造光機(jī)精品”!
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