服務(wù)熱線(xiàn)
4001027270
我們的最新材料:Sb2xAs2(1-x)S3具有由Sb-Sb-S3原子組成的完美的1:1:3化學(xué)計(jì)量比。經(jīng)過(guò)一年的34次生長(zhǎng)試驗(yàn),具備單晶尺寸大,最小的缺陷密度(10萬(wàn)個(gè)單胞中的1個(gè))和完善的純度(99.9998%)。硫化銻硫化物(SbAsS3)是帶隙約1.7e的直接帶隙半導(dǎo)體材料。與二硫化鉬類(lèi)似,它具有弱層間耦合作用的層狀結(jié)構(gòu),可剝離成單層。單層厚度為0.8nm,單層SbAsS3在實(shí)驗(yàn)和理論上未被發(fā)現(xiàn)。晶體尺寸范圍在5-8mm,顯示出卓越的PL特性。
晶體生長(zhǎng)周期為8周,顯示出高結(jié)晶度。拉曼光譜顯示半峰高寬FWHM小于6cm-1
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空間群:P21 / c
分層:是/剝離到單層
帶隙:?1.7 eV
純度:半導(dǎo)體級(jí)(6N)99.9999%
生長(zhǎng)技術(shù):物理氣相傳輸 - 持續(xù)時(shí)間:2個(gè)月
樣品尺寸:5-10mm
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