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專業(yè)MEMS工藝流片加工與代開發(fā)

發(fā)表于：2016-09-30  作者：maoyuhehe  關注度：2651

蘇州原位芯片科技有限公司為客戶提供高質(zhì)量的微電子工藝流片服務和技術咨詢。可提供訂制的工藝包括：光刻、反應離子刻蝕、金屬蒸鍍、LPCVD生長氮化硅、氧化硅和劃片等等,為MEMS芯片開發(fā)、MEMS技術研究、納米材料FET研究、光柵研究等領域提供代開發(fā)、代加工服務。

1. 工藝設計：

MEMS結(jié)構(gòu)設計需要綜合考量多種因素，蘇州原位公司的專業(yè)團隊提供MEMS結(jié)構(gòu)和工藝設計服務，可以有效優(yōu)化工藝流程，減少后續(xù)開發(fā)的周期和成本。

2.鍍膜服務：

小片、2寸、4寸和6寸基底蒸發(fā)或濺射：Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt、Ag、Cu、TiW、Pd、Zn、In、SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3、Si3N4和SiO2。(其他材料請直接電話聯(lián)系咨詢)

3.光刻

小片、2寸、4寸和6寸的接觸式曝光或步進曝光，最小線寬500nm。

4.刻蝕

提供干法（NLD、RIE、深硅刻蝕等）和濕法（各向同性和各向異性）刻蝕服務。

5.封裝

包括劃片和鍵合等封裝工藝服務。

憑借5年以上經(jīng)驗的專業(yè)MEMS設計和工藝工程師團隊，蘇州原位芯片可以賦予客戶和合作伙伴MEMS技術的翅膀，快速實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)和學術技術開發(fā)和升級。

網(wǎng)址：www.51mems.com

郵箱：sales@sinoist.com.cn

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