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用于沉積介質(zhì)膜（SiO2和SiNx），適用于最大直徑200毫米圓形基片和不規(guī)則形狀的基片，被廣泛應用于POWER DEVICE，LED，LD，有機EL開發(fā)、 太陽能電池開發(fā)，MEMS等產(chǎn)品生產(chǎn)中，片內(nèi)片間均勻性及重復性優(yōu)于±5%，8inch向下兼容（含碎片）。
設備型號 ULVAC CC-200Cz
鍍膜均勻性1%以內(nèi)：
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