精密光學(xué)鍍膜
發(fā)表于:2020-04-14 作者:ioptee01 關(guān)注度:403
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用于微納半導(dǎo)體器件的腔面鍍膜及光學(xué)器件的高精密光學(xué)膜沉積,可鍍制復(fù)雜膜系、超薄膜層、金屬氧化物及氮化物薄膜,波段覆蓋紫外到2000nm。
型號 衡岳真空 RSP800
所用設(shè)備采用反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng),采用高性能離子源配合磁控濺射的方式鍍制高精密薄膜,具有電子束蒸發(fā)產(chǎn)能大、沉積速度快、可 以鍍制大尺寸工件的優(yōu)點(diǎn),以及離子束濺射膜層致密、膜層純度高、 沉積速率穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn),并且有效降低了使用成本,正在成為新一代的高端精密光學(xué)鍍膜系統(tǒng)。
可最大用于8英寸晶圓片,盤內(nèi)盤間均勻性及重復(fù)性優(yōu)于±0.5%。