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電子束蒸發(fā)鍍膜

發(fā)表于:2020-04-14  作者:ioptee01  關(guān)注度:429

 聯(lián)系方式:18951907529
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)主要用于在Si等材質(zhì)基板上蒸發(fā)沉積Al,Au,Ag,Cr,Cu,Mo,Ni,Pt,Sn,Ti,AuGe等金屬薄膜,片內(nèi)片間均 勻性及重復(fù)性優(yōu)于±3%,可用于最大6英寸晶圓片。
蒸發(fā)臺(tái)型號(hào)ULVAC ei-501z

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