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電子束蒸發(fā)系統(tǒng)主要用于在Si等材質(zhì)基板上蒸發(fā)沉積Al,Au,Ag,Cr,Cu,Mo,Ni,Pt,Sn,Ti，AuGe等金屬薄膜，片內(nèi)片間均 勻性及重復性優(yōu)于±3%，可用于最大6英寸晶圓片。
蒸發(fā)臺型號ULVAC ei-501z
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