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接觸式光刻

發(fā)表于：2020-04-14 作者：ioptee01 關(guān)注度：592

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接觸式曝光系統(tǒng)能夠完成平面圖形及三維圖形轉(zhuǎn)移光刻，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。

設(shè)備型號：MA6-Gen4為德國SUSS設(shè)備，設(shè)備性能強大，可以曝光2寸、4寸、6寸常規(guī)晶圓片以及6寸以下非常規(guī)產(chǎn)品；
最小分辨能力可以達到0.8um的細小線寬；可以實現(xiàn)芯片多層套刻功能，套刻精度可以達到最小0.5um；
設(shè)備靈活性較強，可以用于實驗研發(fā)及批量生產(chǎn)使用。