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精密拋光設備通過超細拋光液對半導體材料進行拋光,實現平整度,粗糙度等高指標技術要求。
設備所有的功能,由控制面板按鍵來控制,每一控制參數,均有獨立的按鍵控制,便于售后的維修服務,可以控制成本。
研磨拋光盤運行由主驅動部分控制,盤的轉速變化可從每分鐘0轉到每分鐘100轉,從而保證了不同工藝要求的參數。
控制面板上定時控制,能夠設定連續(xù)運轉多至10個小時,給操作者以最大的自由操控性。
在設備的側面,設計有除液口,用于廢液的導出,使得整個工藝過程變得簡單快潔。
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