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    石墨盤專用真空烤盤爐

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體清洗設(shè)備-其他

    庫       存：

    200

    產(chǎn)       地：

    中國-安徽省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體清洗設(shè)備-其他

    一、產(chǎn)品介紹：

    真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。

    二、設(shè)計特點：

     

    1、后門設(shè)計熱風(fēng)電機

     

    2、降溫時風(fēng)機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向

     

    3、通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的

     

    三、技術(shù)指標(biāo)

     

    1、使用溫度：1450℃；最高溫度：1500℃；

     

    2、絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；

     

    4、加熱元件：石墨加熱棒；

     

    5、冷卻方式：氣冷 + 循環(huán)風(fēng)冷降溫；

     

    6、控溫穩(wěn)定度：±2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；

     

    7、爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）；

     

    8、氣氛: 可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%；

     

    9、極限真空: 10-3torr級；

     

    10、抽氣速率：空載下，30min達到10-2torr

     

    11、升溫功率：170kW；

     

    12、升溫速率：15℃/min（空載）；

     

    13、降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘

     

    14、腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）
     


    *技術(shù)細節(jié)變動之處，恕不另行通知，具體設(shè)備參數(shù)以咨詢結(jié)果為準(zhǔn)。


    真萍科技作為專業(yè)的石墨盤烤箱設(shè)備制造廠商，可根據(jù)客戶需求定制您需要的滿意產(chǎn)品，有需求的客戶詳情請咨詢400-608-2908或搜索真萍科技了解更多信息。









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