針對具備高度結(jié)構(gòu)化晶圓形貌、深度 MEMS 結(jié)構(gòu)或不平整表面特征的基
板,SAWATEC 公司的 iSPRAY-300 能夠確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密
的噴膠機,適用于手動噴涂或噴霧顯影工藝,主要被應(yīng)用于研究與開發(fā)實驗室,尤
其是 MEMS 加工的試產(chǎn)和小量產(chǎn)場合。
經(jīng)過工藝優(yōu)化的噴嘴能夠結(jié)合低粘度的、特別適用于噴涂作業(yè)的光刻膠(例如 Shipley
1813、AZ 4999、AZ 9260、SU8 等)生成最精細的小液滴。在一個封閉式工藝室中噴
嘴經(jīng)由“弓”字型行進路徑進行噴涂,由此可以確保整個基板表面上均勻的噴涂效
果以及高度可再現(xiàn)性。該設(shè)備可用于圓形或正方形基板,最多可同時噴涂 4 個晶基
板。
iSPRAY-300 噴膠機適用于最大直徑為 300 mm 的晶圓或尺寸為 12x12 英寸的基板。