丝瓜视频污污下载,国产免费a级特黄的片子,亚洲精品二区国产综合

熱門產(chǎn)品

看了該商品的顧客還看了

美國Cee®勻膠機怡和瑞豐

Brewer Science擁有30年的勻膠設備制造歷史，Cee® 熱板的0.3%的溫度均勻性，和勻膠轉(zhuǎn)速小于0.2rpm轉(zhuǎn)速精度及可重復性是業(yè)內(nèi)領先的標準。Cee®設備擁有多項行業(yè)內(nèi)專利和標準，通過不斷把最新的技術融入設備中，Cee®將繼續(xù)成為半導體下一代工藝的領先者。

Cee®在全球擁有超過1500個客戶，其中包括知名的：杜邦、朗訊、德州儀器、Axcelis Technologies、摩托羅拉、希捷、Sony音樂、IBM 、道康寧、BAE系統(tǒng)公司和IBM等，在中國Cee®品牌也擁有眾多的成功客戶。

勻膠機主要構(gòu)造
采用無刷伺服電機，電機設計避免光刻膠等污染物進入電機內(nèi)部。
機身選用耐酸堿、耐沖擊、耐腐蝕不銹鋼、永不生銹，便于清洗。
排風和抽氣系統(tǒng)位計于載片臺之底部 (以利于排風效率和勻膠均一性)。
透明可視,耐化學腐蝕的密封蓋(丙烯酸材質(zhì))，可以在旋涂作業(yè)時完全隔絕光阻的溢
出有效隔絕有毒氣味的散發(fā)。

Cee®200X勻膠機	Cee®200xCB勻膠機、熱板裝置
Cee®1300熱板	Cee®200D自動噴涂顯影/清洗設備
勻膠機主要性能指標：主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）旋涂程序：250，000種程序，無限制程序步驟，每個步驟可精確到0.1秒轉(zhuǎn)動速度：0-12,000rpm(16,000rpm可選) 旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空載）馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1% 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<0.2rpm，重復性< 0.2rpm 工藝時間設定： 0-999.9 sec/step 0.1 精度支持wafer尺寸1cm-200mm 旋涂作業(yè)均勻性：±3%在6英寸范圍內(nèi)(需要去除邊緣3毫米區(qū)域測量）熱板溫控精度：溫控精度: 0.1°C 溫控范圍:室溫-300攝氏度(400攝氏度可選) 溫度均勻性 :±0.3%（工作范圍內(nèi)）熱板工作模式（真空模式、接近模式、接觸模式）部分選件：可加裝背后清洗、去邊裝置可程控自動點膠裝置（容量30-50ml,360ml,1GL）噴涂顯影裝置（噴液、吹氮、去離子水）精確溫度曲線控制惰性氣體環(huán)境加熱固化
Cee® 200FX大尺寸勻膠機 (可用于TFT-LCD勻膠)	Cee® 200HD超重襯底勻膠機
勻膠機主要性能指標主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）旋涂程序：700種程序（200FX），每個程序15步，每個步驟可精確到0.1秒旋涂程序：250種程序（200HD），每個程序15步，每個步驟可精確到0.1秒轉(zhuǎn)動速度：0-6,000rpm(12,000rpm可選) 旋涂加速度：0-30000rpm/sec 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度0.2rpm，重復性< 0.2rpm 工藝時間設定： 0-999.9 sec/step 0.1 精度支持大尺寸TFT-LCD勻膠工藝16”x16“方片（200FX系列）支持wafer最大17“圓片，12”x12“方片（200HD系列）適用于FPD襯底和較重襯底（200HD系列）的化學試劑涂布特殊的卡盤設計，可保證大尺寸Substrate邊緣效應最小化。選件：可程控自動點膠裝置（多種30-50ml,360ml,1GL）可編程的吮吸系統(tǒng) (Programmable Suckback System) 可以防止多余的膠從管嘴溢出。可加裝背后清洗、去邊裝置和噴涂顯影裝置. 產(chǎn)品可加裝噴嘴，可同時適用多種材料的光刻材料及去離子水清洗功能。