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    徽章式真空熱處理爐

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-爐類設備-高真空氣氛爐

    庫       存：

    69

    產(chǎn)       地：

    日本

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    ￥10.00
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    客服電話：4001027270

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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-爐類設備-高真空氣氛爐

    特點： 
    最高溫度1300ºc,常用400ºc ~ 400ºc可能使用

    均熱特性是1150ºC±5ºC以內,保證

    熱效率高的金屬(mo)加熱器采用

    高真空油擴散泵的排氣系(PFL - 22型)為標準采用

    用途：
    鋼淬火、回火處理:各種工具,機械配件

    燒結處理:超硬工具,磁鐵等

    蠟料處理:熱交換器,機械配件等

    規(guī)格：

    有效處理尺寸600 h x 1200 x 600 w lmm * 1

    最大裝載重量500公斤

    最高溫度:溫度(最高/常用1300ºc /常用溫度:400ºc ~ 1250ºc

    均熱特性1150ºC中±5ºC * 2(天空爐)

    從室溫升溫速度ºC到1150 120分鐘以內* 3

    到達壓力3 . 0 x 10 - 3 Pa以下* 4

    冷卻性能1150ºc ~ 150ºc以下45分鐘以內到* * 5

    排氣時間大氣壓~ 1.0×10 - 1 pa到以下25分鐘以內

    泄漏量5 . 3×10 - 4 Pa•m - 3 / s以下

    所需電量約180網(wǎng)(AC200V / 220v,50 / 60 Hz,3φ)

    所需冷卻水量14 . 0米3 / Hr

    壓縮空氣量600 NL / min

    冷卻氣體量8.8 Nm3 /次* 5(50 Hz),7.2 Nm3 /次* 5(60 Hz)

    面積約5.5 W x 5.9 L x 3.5 Hm

    * 1托盤尺寸40 tmm。托盤上處理尺寸為560 Hmm。

    * 2樣本測定無插入時9分的情況

    * 3φ16毫米圓棒最大重量分,有效處理了等間隔配套尺寸測量。

    * 4樣本無插入脫氣體后的測定值的高真空排氣系(使用)。

    * 5冷卻氣體壓力:n2氣體max 0.16 mpa、abs(50 hz地區(qū)),max 0.13 mpa、abs(60 hz地區(qū))在冷卻時的情況。

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