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    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體輔助設(shè)備-氣體類輔助設(shè)備

    庫       存：

    99

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
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    品牌：

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體輔助設(shè)備-氣體類輔助設(shè)備

    本設(shè)備適用于在涂膠、光刻前對晶片進(jìn)行預(yù)處理。設(shè)備由腔體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統(tǒng)組成。通過多次預(yù)抽真空，150?C熱氮加熱，既能達(dá)到使硅片表面干燥、潔凈的效果，又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質(zhì)的擴(kuò)散，并且可以通過加液系統(tǒng)在硅片表面生成HDMS保護(hù)膜，從而使硅片具有良好的光刻性能。也可用于晶片其它工藝的清洗?？刂撇捎肞LC，人機(jī)界面采用觸摸屏，具有可靠性高，操作方便、直觀等特點(diǎn)。
    　　主要技術(shù)指標(biāo)
    　　整機(jī)尺寸：600x620X1260mm3
    　　真空腔體尺寸：450×450×450mm；材質(zhì)：不銹鋼
    　　雙層承片板，承片板尺寸：420×410mm；上下層距離190mm
    　　整機(jī)消耗電源AC220V，2KW
    　　采用2XZ-4真空泵，系統(tǒng)可達(dá)到真空度-100Kpa
    　　加熱方式：腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為內(nèi)置加熱板，功率1.5KW，腔體溫度：20℃～160℃±2℃；可調(diào)
    　　配HMDS液體一瓶

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