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    包郵 關注:724

    紫外光刻機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-UV泛曝光機

    產(chǎn)品品牌

    URE-2000

    庫       存：

    10

    產(chǎn)       地：

    中國-四川省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：URE-2000

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-UV泛曝光機

     URE-2000/35型光刻機

     

    1．技術特征——非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）

    采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用350W進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非?？煽?，自動化程度很高，操作十分方便。

     

    2．技術參數(shù)

    l曝光面積：4英寸

    l曝光波長：365nm

    l分辨力：1mm（膠厚2 mm的正膠）

    l對準精度：±0. 8mm

    l掩模樣片整體運動范圍：X：15mm;Y:15mm

    l掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸

    l樣片尺寸：直徑f10mm-- f100mm(各種不規(guī)則片)

    厚度0.1mm--5mm(可擴展為15mm)

    l曝光方式：定時（倒計時方式）和定劑量

    l具備真空接觸曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光，以及接近式曝光四種功能

    l照明不均勻性： 3%（f100mm 范圍）

    l雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過CCD+顯示器對準，光學合像，光學最大倍數(shù)400倍，光學+電子放大800倍

    物鏡三對：4倍、10倍、20倍

    目鏡三對：10倍、16倍、20倍

    l調(diào)平接觸壓力通過傳感器保證重復

    l數(shù)字設定對準間隙和曝光間隙

    l具備壓印模塊接口，也具備接近模塊接口

    l掩模相對于樣片運動行程：

     X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6º

    l最大焦厚：400mm（SU8膠，用戶提供檢測條件）

    l光源平行性：3.5 º

    l曝光能量密度：>20mW/cm2,照明面溫度<35 º

    l單層曝光一鍵完成

    l采用球氣浮自動找平

    l汞燈功率：350W（直流，進口汞燈）

     

    3．外形尺寸：1200mm（長）´900mm(寬) ´1750mm（高）

     

    4．交貨期：1.5月

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    提問:
     
    問

    刻蝕精度多高?基片的尺寸范圍多大？分辨率、對準精度多高？

    sjfh  2017-08-14

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品：

    服務熱線

    4001027270

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    價格和優(yōu)惠

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