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    包郵 關(guān)注:419

    Helmut Fischer X射線光譜儀

    庫(kù)       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
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     特點(diǎn)：
    用途廣泛的鍍層厚度測(cè)量?jī)x，包括金層測(cè)厚、銀層測(cè)厚和化金厚度等。
    通過(guò)組合可選的高壓和濾片，可以對(duì)較薄的鍍層（如50 nm Au 或 100 μm Sn）和較厚的鍍層進(jìn)行同樣效果的測(cè)量.
    配有的微聚焦管，可以測(cè)量100 μm大小的微小測(cè)量點(diǎn)。
    比例計(jì)數(shù)器可實(shí)現(xiàn)數(shù)千cps（每秒計(jì)數(shù)率）的高計(jì)數(shù)率。
    從下至上的射線方向，從而可以快速簡(jiǎn)便的放置樣品。
    底部C型開(kāi)槽的大容量測(cè)量艙 
     
    典型應(yīng)用：
    FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-μ-WAFER專用兼容6、8、12英寸晶圓，移動(dòng)范圍覆蓋晶圓150，200，300 mm (6、8、12 英寸) 上 的每一個(gè)點(diǎn) 
     •測(cè)量極微小平面部件結(jié)構(gòu)，如印制線路板
     • 分析超薄鍍層， 如，≤ 0.1 μm 的Au 和Pd 鍍層
     • 測(cè)量電子工業(yè)或半導(dǎo)體工業(yè)中的功能性鍍層
     • 分析復(fù)雜的多鍍層系統(tǒng)
     • 全自動(dòng)測(cè)量，如在質(zhì)量控制領(lǐng)域
     

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