第三代半導(dǎo)體材料精密磨拋解決方案 ——MCF精密磨拋設(shè)備

發(fā)表于：2018-01-03  作者：dsm1219  關(guān)注度：363

GNAD系列高精度研磨拋光設(shè)備是MCF公司研制的覆蓋半導(dǎo)體材料，光電材料等應(yīng)用領(lǐng)域的精密磨拋設(shè)備。主要適用的材料包括：硅，砷化鎵，鈮酸鋰，光纖，碳化硅，藍寶石，碲鋅鎘等多種材料。

設(shè)備結(jié)構(gòu)及功能

GNAD系列精密研磨拋光機包括主機，遠程操控系統(tǒng)，夾具，真空系統(tǒng)，填料系統(tǒng)，研磨拋光盤等。

GNAD系列精密研磨拋光機，主機及所有的零備件均采用高防腐蝕材料，整機防腐，適用于多種半導(dǎo)體材料的化學機械研磨拋光。

設(shè)備的功能參數(shù)，可由獨立的遠程操控系統(tǒng)控制。遠程操控系統(tǒng)可根據(jù)用戶工藝等具體要求選擇無線或有線方式控制主機?？刂葡到y(tǒng)可根據(jù)用戶工藝要求選擇獨立于設(shè)備主機的距離，這個配置既提高了化學磨拋工藝過程中對操作人員健康安全的保護等級，更是避免了磨拋過程中產(chǎn)生的磨拋液廢料腐蝕操作控制系統(tǒng)。通過獨立的遠程控制系統(tǒng)也可實現(xiàn)多機聯(lián)控，通過一個控制終端實現(xiàn)對多臺磨拋機的控制，也方便了工藝過程中更改工藝參數(shù)的操作，更實現(xiàn)多道工藝同時精準數(shù)控，大大提高了工作效率及工藝精度。 

夾具可在線監(jiān)測樣品的去除量，精度可實現(xiàn)1ｕｍ．并可根據(jù)用戶工藝要求定制各種角度附件等非標夾具附件，實現(xiàn)對非標形狀樣品的拋光及角度拋光。

設(shè)備可支持多通道進料系統(tǒng)同時工作，實現(xiàn)化學研磨拋光等各種復(fù)雜的工藝。　

設(shè)備具有實時在線監(jiān)測工藝過程中磨拋盤面形的功能，并可實時在線修整磨拋盤的面型。盤面形控制精度1um。

GNAD系列磨拋機具有實時在線監(jiān)控磨拋盤溫度變化和冷卻功能。盤溫接近預(yù)設(shè)溫度警戒值，設(shè)備會自動啟動冷卻功能，保持磨拋盤在工藝要求的溫度范圍內(nèi)運轉(zhuǎn)工作。

GNAD系列磨拋設(shè)備具有設(shè)備定時功能，可連續(xù)工作運行時間１０小時。同時，設(shè)備具有預(yù)設(shè)工作時間功能，預(yù)設(shè)時間達到，設(shè)備自動停機，大大提升了設(shè)備的自動化功能的同時也極大提升了工藝標準化操作。

設(shè)備具有自動清洗功能。根據(jù)工藝要求可實時在線沖洗磨拋工作區(qū)域。流速，清洗時間等參數(shù)可精確數(shù)控。

設(shè)備特點

● 獨立遠程操控系統(tǒng)，強腐蝕化學拋光過程實現(xiàn)人機分離遠程操控。

●可在一個控制終端實現(xiàn)多機聯(lián)控

● 在線實時磨拋盤溫控及冷卻功能

● 多通道進料系統(tǒng)

● 磨拋盤自動沖洗功能

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