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    進口精微影像儀MicroLine 300

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體測試設備-光學類測試-其他

    產(chǎn)品品牌

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    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-廣東省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：VIEW

    型號：

    所屬系列：半導體測試設備-光學類測試-其他


    關鍵尺寸的自動化光學測量系統(tǒng)
     
     
     
    MicroLineTM 300影像測量儀是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設備等關鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng)。該系統(tǒng)配備了高質量光學顯微鏡和精密移動平臺，可對200mm的晶圓上0.5µm到400µm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量。
    n  200 x 200mm精密X-Y平臺
    n  基于視覺的自動聚焦獲得最佳影像質量
    n  自動照明可編程光強
    n  用于測量透明層、不規(guī)則邊緣的線、厚膜等的強勁性能
    n  完全可編程的序列，包括自動聚焦和關鍵尺寸測量
    n  電動的6目物鏡轉換器，軟件控制
    n  可選的透射照明
    技術規(guī)格：
    - 測量行程: 200 x 200 x 25mm (XYZ)
    - 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放
    - 視場內的測量精度: 0.010µm (用100x物鏡)
    - 特征尺寸: 視場內0.5µm - 400µm
    - FOV測量重復性: <0.010µm on wafers (用100x物鏡)
    <0.005µm on photomasks (用100x物鏡)
    - 照明: 石英鹵素燈, 反射光
           自動照明
    - 低噪音CCD VGA格式攝像頭
    - 圖像處理60幀每秒
    MicroLine 300的典型應用包括：
    l  晶圓
    l  光罩
    l  MEMS
    l  微型組件
    測量類型:
    n  關鍵尺寸:
    線寬  Linewidth
    節(jié)距  Pitch
    間隙  Spacing
    n  Overlay
                 Multi-layer registration
    Box in box
    Circle
    Edge roughness
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