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    揚州晶片切割制造用水設(shè)|半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-水處理設(shè)備

    產(chǎn)品品牌

    偉志

    規(guī)格型號:

    全自動

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    5天

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-江蘇省

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    品牌:偉志

    型號:全自動

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-水處理設(shè)備

     揚州晶片切割制造用水設(shè)|半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備

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    EDI全自動超純水設(shè)備濃水流量調(diào)節(jié)

     

    超純水設(shè)備濃水流量調(diào)節(jié)

    濃水流量調(diào)節(jié)

    濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。

    導(dǎo)致系統(tǒng)結(jié)果

    由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。

      目前edi水處理技術(shù)已經(jīng)是當(dāng)今最流行的水處理方式了,采用edi水處理技術(shù)與反滲透技術(shù)結(jié)合使用有非常好的處理效果,并在各行各業(yè)獲得了眾多好評。

     

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