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LP系列聚氨酯拋光墊是美國環(huán)球的核心產品，在過去80多年時間里環(huán)球光學致力于拋光行業(yè)的發(fā)展，已開發(fā)了拋光墊生產線迎接電子行業(yè)的飛速發(fā)展需求。JH Rhodes公司成立于1899年，超過110年的拋光耗材生產經營，于1975年成為環(huán)球光學的子公司并開發(fā)聚氨酯拋光墊技術服務于其核心市場的需求。作為他們的代理商，我們致力于支持前沿客戶。我們有一支高素質的專業(yè)團隊，提供加工/應用工程等技術基礎上的支持。
環(huán)球光學已經具有40多年拋光墊發(fā)泡技術經驗。LP系列拋光墊由一種特殊的微孔發(fā)泡材料制成，設計用于加工高平坦度要求及光潔度要求。聚氨酯材料可以使拋光墊非常堅硬耐磨同時保持多孔。這種堅硬耐磨可使拋光墊終身保持平坦一致性。已經開發(fā)用于各種各樣需求及基板材料的平面球面加工和磨削加工。
加工材料 / 應用包括:
v 半導體基板
v 平板玻璃/LCD/FPD
v 精密光學元件
v 磁盤存儲器基板
v 磁盤驅動頭
填充物：LP系列拋光墊可提供有各種密度的磨料填充物與無填充物。填充磨料包括氧化鈰、氧化鋯及硅等。
LP系列聚氨酯拋光墊物理特性及典型應用
(增加典型應用列表)
|
型號 |
密度 |
硬度 |
填充物 |
典型應用 |
|
LP-13 |
22 |
66 |
氧化鈰 |
玻璃； 精密光學 |
|
LP-26 |
36 |
88 |
氧化鋯 |
精密光學 |
|
LP-46 |
25 |
74 |
氧化鋯 |
光纖 精密光學 |
|
LP-57 |
32 |
88 |
無 |
精密光學 半導體基板 |
|
LP-66 |
26 |
78 |
氧化鈰 |
玻璃 精密光學 LCD 玻璃磁盤 |
|
LP-70 |
26 |
78 |
氧化鈰 |
玻璃 精密光學 |
|
LP-77 |
27 |
78 |
氧化鈰 |
玻璃 精密光學 |
|
LP-87 |
49 |
96 |
無 |
玻璃 精密光學 |
|
LP-88 |
70 |
n/a |
氧化鈰 |
精密光學 |
|
LP-U |
44 |
95 |
無 |
精密光學 半導體基板 |
|
ESM-013 |
37 |
84 |
無 |
精密光學 半導體基板 |
|
GR-25 |
28 |
81 |
無 |
精密光學 |
|
GR-35 |
37 |
90 |
氧化鋯 |
精密光學 LCD |
|
Laser |
36 |
90 |
專利 |
精密光學 |
標準規(guī)格大小：23 x 55 inches（584.2 x 1397mm），最大尺寸可以做到41 x 82 inches (1,041 x 2,083mm) & 62 x 62 inches (1,575 x 1,575mm)，不同大小及形狀都可以根據客戶要求定制。
標準規(guī)格厚度：從0.020到0.20 inches (從0.508到5.08mm)，最大厚度可以做到1英寸（25.4mm)，基于不同應用其它不同厚度都可以定制。
開槽：我們的拋光墊可以開各種槽形，槽可幫助拋光液流動并帶走切削的細屑。
|
常規(guī)開槽規(guī)格 |
||
|
開槽編號 |
方格大小(mm) |
槽寬(mm) |
|
#2 |
2×2 |
1.0 |
|
#5 |
5×5 |
1.0 |
|
#10 |
10×10 |
1.0 |
|
#15 |
15×15 |
1.5 |
|
#20 |
20×20 |
1.5 |
|
#30 |
30×30 |
2.0 |
|
#40 |
40×40 |
3.0 |
|
#70 |
70×70 |
3.0 |
|
#90 |
90×90 |
3.0 |
說明：
開槽拋光墊最小厚度1mm
標準槽深為拋光墊厚度1/2
可以為客戶不同開槽要求定制
購買之前，如有問題，請向我們咨詢
