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    SiO2 / Si襯底上單層MoS2三角形

    應用于半導體行業(yè):

    半導體原材料-晶片—襯底類-硅襯底

    庫       存:

    10

    產(chǎn)       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體原材料-晶片—襯底類-硅襯底


    產(chǎn)品描述
    單層MoS2生長在SiO2 / Si襯底上。其中包含在SiO2 / Si襯底上隨機分布的單層MoS2三角形薄片。雖然一些區(qū)域通過聚結MoS2三角形薄片能獲得連續(xù)的薄膜,但用于高級光譜,顯微和電子測量技術的則是獨立的三角形薄片。合成的三角形單層MoS2薄片是高度發(fā)光的,拉曼光譜也證實了其單層特性。與生長在藍寶石襯底上的MoS2三角形相比,該三角形單層MoS2晶體的發(fā)光更加明顯。
    示例屬性
    樣品尺寸
    1cm x 1cm正方形
    襯底類型
    熱氧化物(SiO2 / Si)襯底
    覆蓋
    隔離和部分合并單層三角形
    性能
    1.85 eV直接帶隙半導體
    結構
    六角相
    原胞參數(shù)
    a = b = 0.313nm,c = 1.230nm,α=β= 90°,γ= 120°
    生產(chǎn)方式
    常壓化學氣相沉積(APCVD)
    表征方法
    拉曼,光致發(fā)光,TEM,EDS
    規(guī)范
    · 識別。轉移到SiO2 / Si襯底上的各自分離的MoS2單晶S。
    · 物理尺寸。一厘米大小??筛鶕?jù)要求提供高達2英寸的晶圓尺寸。
    · 平滑度。表面粗糙度<0.1-0.2nm。
    · 均勻性。高度均勻的表面形態(tài)。MoS2三角形分散在樣品上。
    · 純度。通過納米SIMS測量確定純度99.9995%。
    · 可靠性。可重復拉曼和光致發(fā)光響應。
    · 結晶度。高結晶質(zhì)量,拉曼響應和與單晶單層薄片相當?shù)墓庵掳l(fā)光。
    · 基質(zhì)。SiO2 / Si襯底,但我們的研發(fā)團隊可以將MoS2三角形轉移到各種襯底上,包括PET和石英,而不會對材料質(zhì)量造成重大影響。
    · 支持。我們提供全面的技術支持,并保證老客戶滿意。
    · 缺陷分布。三角形單層MoS2晶體沒有刻意的摻雜劑或缺陷。然而,我們的技術人員可以使用轟炸技術產(chǎn)生有缺陷的MoS2。

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