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Transene公司薄膜蝕刻液廣泛應(yīng)用于微電子電路光刻制作過(guò)程中獲得選擇性的金、鎳、鉻及鎳鉻等薄膜的蝕刻，可結(jié)合光刻膠技術(shù)用于在鋁板表面薄膜上制備精準(zhǔn)的電極和電阻圖案。薄膜蝕刻液為安全、無(wú)毒的溶液，室溫下即可使用。這些蝕刻液可與負(fù)性及正性光刻膠相適應(yīng)，從而得到及其精細(xì)的線條形狀。

品名	金蝕刻液	銀蝕刻液	鎢化鈦蝕刻液	銅蝕刻液	磷化鎵蝕刻液	鎳蝕刻液
型號(hào)	TFAC/TFAC/GE-8148 /GE-8110/GE-8111	TFS	TiW-30	Copper Etch-49-1	GaP	TFB/TFG/TYPE-I
品名	鉭蝕刻液	鈀蝕刻液	緩沖氧化物蝕刻液	硅蝕刻液	聚酰亞胺蝕刻液	鋁蝕刻液
型號(hào)	SIE-8607/TYPE-111	TFP/EC	BOE (6:1)	PSE-200	Sodium Hydroxide	Type-A/ TYPE-D/ TYPE-F
品名	鉻蝕刻液	鎳鉻蝕刻液	鎢蝕刻液	鈦蝕刻液	鈦鎢蝕刻液	硅蝕刻液
型號(hào)	1020/1020AC/CRE-473 /CE-5M/TFE/CE-8002-A /CE-8001-N	TFN	TFW	TFT/TFTN	TiW-30	PSE-200/PSE-300

蝕刻液

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