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鋼瓶容積 |
鋼瓶型號(hào) |
閥門 |
鋼瓶壓力 |
氣體質(zhì)量 |
危規(guī)號(hào) |
UN編號(hào) |
包裝分類 |
包裝標(biāo)志 |
47L、43.3L、40L、8L |
DOT-3AA、GB5099 |
CGA330、CGA640 |
9.0-13.0MPa |
22kg、20kg、3.4kg |
23016 |
2451 |
Ⅱ |
6 |
應(yīng)用 三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,對(duì)硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對(duì)表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時(shí)也是非常良好的清洗劑。
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