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    蝕刻機(jī)CVD SiC聚焦環(huán)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-刻蝕耗材-陶瓷盤

    產(chǎn)品品牌

    TBM

    庫       存:

    888

    產(chǎn)       地:

    韓國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    10000.00
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:TBM

    型號:

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備耗材-刻蝕耗材-陶瓷盤

           CVD Bulk(純固體) SiC材料是由大量的化學(xué)氣相沉積(CVD)中產(chǎn)生的固體過程而生成的高純SiC材料(99,9995%=5N)

    在理論上CVD SiC材料是超純細(xì)粒度(5N)致密的微觀組織,沒有空隙或微裂紋,具有ß立方晶體結(jié)構(gòu)。

    CVD Bulk(純固體) SiC,它優(yōu)于傳統(tǒng)的碳化硅形式,以及其他陶瓷,石英,和金屬。

     

    CVD Bulk(純固體) SiC具有如下的各種優(yōu)越性能:

    ①優(yōu)良的耐化學(xué)腐蝕(純SiC不會(huì)被HCl、HNO3、H2SO4和HF等酸溶液以及NaOH等堿溶液侵蝕)。

    ②具有熱穩(wěn)定性,抗熱震性能,抗疲勞性能,抗氧化性能, 可使用用于溫度達(dá)1700°C.- 1800°C環(huán)境。

    ⑶高導(dǎo)熱系數(shù),但是熱膨脹系數(shù)卻低,具有良好的熱和機(jī)械性能。 

    ④優(yōu)越的平整度,保持平坦剛度 (1700°C) ,優(yōu)良的耐磨性及鏡面裝飾性,可擦拭至<3ÅRMS(1000Ω厘米)

    ⑤低電阻,(體電阻率為0.012),具有高溫半導(dǎo)體電性。

    ⑥高硬度(僅次于鉆石),高剛度,高強(qiáng)度,高彈性模量,高耐磨損性,所以尺寸穩(wěn)定性好,具最好的剛度/重量比。

    目前CVD Bulk(純固體) SiC產(chǎn)品開始應(yīng)用在半導(dǎo)體裝備體制造業(yè)中需要超高溫和等離子蝕刻/光刻等惡劣環(huán)境中。
           該類產(chǎn)品來替代由石墨或金屬硅,石英材料制作的現(xiàn)有各種易損另部件

          CVD Bulk(純固體)SiC市場并不是開拓新領(lǐng)域,而是要替代現(xiàn)有硅材料的初級階段 -由于半導(dǎo)體行業(yè)都正在增設(shè)大直徑(>300mm)晶圓工         廠而市場規(guī)模日趨擴(kuò)大,目前由CVD Bulk(純固體)SiC來替代原先使用的硅材料的半導(dǎo)體市場規(guī)模仍不到5% 。為了適用於半導(dǎo)體器件制造工       程,考核驗(yàn)證產(chǎn)品質(zhì)量的時(shí)間整整花費(fèi)了3年 以上,現(xiàn)已通過驗(yàn)證并處于擴(kuò)大應(yīng)用階段 由于韓國半導(dǎo)體龍頭企業(yè)已經(jīng)負(fù)擔(dān)了開發(fā)成本,減少風(fēng)        險(xiǎn),現(xiàn)在可以直接投入批量生產(chǎn)及應(yīng)用創(chuàng)造條件=> 現(xiàn)在正是后發(fā)企業(yè)進(jìn)入推廣應(yīng)用的最佳機(jī)會(huì) 。半導(dǎo)體市場規(guī)模而言,一旦把石英部件也要      由CVD Bulk(純固體)SiC材料來替代的話,其市場規(guī)??隙ㄒ忍娲璨牧系氖袌龃蟮枚嘌?!

     

     

     

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