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    德國Sentech Depolab 200 等離子體沉積機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-刻蝕設備-反應離子刻蝕機

    產品品牌

    德國Sentech

    庫       存：

    1

    產       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：德國Sentech

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-刻蝕設備-反應離子刻蝕機

     

    德國Sentech PECVD Depolab 200 等離子體沉積機


    成本效益

     

     

    PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結合。

     

    可升級性

     

    根據(jù)其模塊化設計，depolab200可以升級為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。

     

    SENTECH控制軟件

     

    用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。

     

    Depolab 200是由SENTECH公司開發(fā)的一種基本的等離子體增強化學沉積(PECVD)工具，它將用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計與直接負載的經濟有效設計相結合。從2英寸到8英寸的晶圓片和樣品片上的標準應用開始，它可以逐步升級以適應復雜的加工。

     

    Depolab 200的突出特點是系統(tǒng)的堅固性設計、可靠性和軟硬件的靈活性。在這個系統(tǒng)上開發(fā)了不同的程序。用于高品質氮化硅和氧化硅層沉積。Depolab 200包括帶有氣箱、控制電子、計算機、背泵和主連接箱的反應器單元。

     

    Depolab 200等離子體增強沉積工具可在400℃以下的溫度范圍內沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特別適用于蝕刻掩膜、膜、電隔離膜等介質薄膜的沉積。

     

    Depolab 200由森泰克先進控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術和非常友好的通用用戶界面。

     

    Depolab 200

     

     

     

     

    PECVD等離子體沉積工具

    打開蓋子加載

    適用于200毫米晶圓

    基片溫度可達400℃

    低應力薄膜可選低頻混頻

    干式抽油機

    占用空間小

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