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    包郵 關(guān)注:306

    DS-2000/14G型光刻機(jī)

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    晶普

    庫(kù)       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)-四川省

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:晶普

    型號(hào):

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    產(chǎn)品名稱(chēng):DS-2000/14G型光刻機(jī)

    主要技術(shù)指標(biāo):

    單次曝光面積:1.4mm×1mm
    最大曝光基片:100mm ×100mm
    對(duì)準(zhǔn)精度:±0.8μm(半自動(dòng)對(duì)準(zhǔn))
    最大膠厚:300μm(SU8膠)
    自動(dòng)逐場(chǎng)對(duì)焦;
    分辨力:1μm;
    X、Y、Z、θ四自由度電動(dòng)位移臺(tái)
    X、Y平移重復(fù)定位精度:0.65μm(3σ)
    Z向運(yùn)動(dòng)精度:1μm

    技術(shù)特點(diǎn):

    該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(可同時(shí)使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設(shè)定采用微機(jī)控制,菜單界面友好,操作簡(jiǎn)便。

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