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    高純鎳靶材 Ni靶鍍膜濺射靶

    產(chǎn)品品牌

    HC

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    99.9%

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    4周天

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    20

    產(chǎn)       地:

    中國-江蘇省

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    減少 增加

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    2000.00
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    高純鎳靶,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體和微電子行業(yè),是半導(dǎo)體背面電極的關(guān)鍵材料。通過反復(fù)的塑性加工鎳顆粒具有高致密度,高純度的特性,且晶粒組織大小均勻一致。生產(chǎn)過程的靈活適當(dāng)調(diào)整顆粒的微觀結(jié)構(gòu)來達到你想要的效果,鎳靶的晶粒大小均勻一致,可以獲得均勻的膜層.

    產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、觸控面板、集成電路、LED芯片、Low-E玻璃、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏太陽能、光學(xué)光通信、光磁存儲、電子封裝、電動新能源等領(lǐng)域。

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