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    非光刻涂層

    應(yīng)用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設(shè)備耗材-涂膠耗材-光刻膠

    產(chǎn)品品牌

    Futurrex

    規(guī)格型號：

    250ml

    庫       存：

    2

    產(chǎn)       地：

    美國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    品牌：Futurrex

    型號：250ml

    所屬系列：半導體加工設(shè)備耗材-涂膠耗材-光刻膠

            1、特別涂層PC3

    應(yīng)用：平坦化層 – 轉(zhuǎn)移平坦層到下面的介電質(zhì)的刻蝕后加工過程；機械保護層 – 劃片和切割操作中；臨時粘合層。

    性質(zhì)是優(yōu)異的平坦化性能，厚度范圍是在0.5 ～ 20.0 um，對生產(chǎn)的作用是在一些應(yīng)用中省去化學機械拋光平坦化處理、刻蝕后加工處理時抑制微負載的影響、劃片時消除膜剝落和破裂的情況、在背部減薄和晶片分離后很容易在光膠去除劑RD3或RD6中去除。

    2、旋涂玻璃：SOG

    應(yīng)用：在多層金屬加工中作為介電質(zhì)一部分的平滑層和保護層，在三層光膠加工中的中間層。

    性質(zhì)：固化之后設(shè)備可應(yīng)用的膜硬度、厚度范圍是在0.15 ～ 0.55 um、對生產(chǎn)的作用是在一些應(yīng)用中省去化學氣相沉積（CVD）二氧化硅、在多層金屬加工處理中省去費時的填充狹窄溝槽的SiO2沉積和凹蝕、在為薄膜磁性頭制作的基板制備中省去拋光

     

    旋涂玻璃

    ICI-200

    0.17μm ～ 0.20μm

    DC4-500

    0.45μm ～ 0.55μm

    3、旋涂摻雜涂層

    應(yīng)用：在旋涂硼、旋涂磷、旋涂鋅；其性質(zhì)是透明薄膜通過O2 Plasma轉(zhuǎn)化為固態(tài)摻雜。其對生產(chǎn)作用是省去摻雜的旋涂玻璃、在一些應(yīng)用中省去離子植入、省去ampoule中鋅摻雜。

    旋涂摻雜涂層

    涂層

    類型

    BDC1-2000

    硼摻雜涂層

    PDC1-2000

    磷摻雜涂層

    ZPDC2-2000

    鋅摻雜涂層

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