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合金靶材濺射靶材

濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面。

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

根據(jù)形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶

根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

材料及符號	純度	規(guī)格
鋅鋁合金靶(ZnAl)	99.99%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鋯鈦合金靶(ZrTi)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鋯鈮合金靶(ZrNb)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎢鈦合金靶(Wti)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎢錸合金靶(WRe)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鈦鎳合金靶(TiNi)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鈦鋁合金靶(TiAl)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎳釩合金靶(NiV)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鉬硅合金靶(MoSi)	99.5%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銦錫合金靶(InSn)	99.99%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銥錸合金靶(IrRe)	99.9%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銥錳合金靶(IrMn)	99.5%	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銅硒合金靶(CuSe)	3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銅鎵合金靶(CuGa)	3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銅銦合金靶(CuIn)	4N,5N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鉻硅合金靶材(CrSi)	3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鋁硅銅合金靶材(AlSiCu)	3N,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鋁硅合金靶(AlSi)	4N,5N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鋁鉻合金靶(AlCr)	3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
銅鋁合金靶(CuAl)	4N,5N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎳鉻鋁合金靶(NiCrAl)	3N,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎳鉻硅合金靶(NiCrSi)	3N,3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鎳鉻合金靶(NiCr)	3N,3N5,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶
鈦鋁合金靶(TiAl)	2N5,3N,4N	平面靶，圓柱靶，臺階靶，管狀靶

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