三達奧克化學股份有限公司

     三達奧克化學股份有限公司成立于2000年，注冊資本5640萬元，廠區(qū)總建筑面積近5萬平方米，其中獨立的研發(fā)中心大樓占地近萬平方米。公司致力于電子化學品專用技術、工業(yè)專用清洗技術、金屬加工液技術、金屬表面處理技術、商用清潔技術等五大核心技術研發(fā)及應用。自三達奧克成立以來，經過十幾年的高速發(fā)展，現已成為同行業(yè)中團隊規(guī)模、研發(fā)規(guī)模、生產規(guī)模及建設規(guī)模很大的優(yōu)質企業(yè)，已被評定為“國家火炬計劃重點高新企業(yè)”、“...